黄昆带着秦国刚、王守武、王圩等数名技术大佬迎了过来。
“几位院士，你们好，在这里工作还顺心吗？”赵烨一脸关切的问道，语气简直要多真诚，有多真诚。
这些院士大佬们简直就是他的心肝宝贝。
国内光刻机技术能不能快速突破，就得看他们的了。
黄昆老院士笑着说道：“当然顺心，国内没有哪个地方比这里还好，什么也不要操心，一切都有专人伺候，我们只管研发就好了！”
赵烨点点头：“你们工作顺心就好，对了，黄院士，新一代光刻机的开发进度到什么程度了？”
黄昆院士笑了笑，回答道：“进度还不错，预计明年或许能够开发出新一代的光刻机，直追日本佳能和尼康的光刻机。”
顿了顿，黄昆院士侃侃而谈，仔细地为赵烨介绍道：“我们现在采用193nmArF激光光源，已经实现了光刻过程中，掩模和硅片的同步移动，并且采用了缩小投影镜头，缩小比例达到5：1，有效提升了掩模的使用效率和曝光精度，从而将芯片的制程和生产效率提升了一个台阶！”
赵烨对当下的光刻机以及芯片生产工艺也算比较了解，此刻听完黄昆院士的话，不由心头大喜。