干式光刻机到达193nm，就差不多到头了，想要再次突破，难度极大。前世，光刻机技术在20年内，几乎没有什么进步，都被困在这里，光学光刻技术似乎已经到了分辨率的“极限”。后来直到林本坚提出“浸润式光刻”这一具有颠覆性的技术之后，光刻机技术这才得到突破193nm。
无疆微电子公司只要开发出193nm光刻机，就跟佳能和尼康的光刻机技术相差不大了，反正之后20年，对方怎么也进步不了了。
反倒是无疆微电子公司研发浸润式光刻技术，实现弯道超车！
赵烨对众人鼓励一番，心情愉快地离开了。
……
日本。
雷克斯·艾登做好充分的调查准备之后，便开展行动。
在正式接触东芝公司之前，他先悄悄约NAND闪存的发明者舛冈富士雄。
晚上7点钟，舛冈富士雄准时赴约。
雷克斯·艾登微笑着看着对方，开口道：“舛冈富士雄先生你好，我先做一下自我介绍，我叫雷斯克·艾登，目前正在为中国无疆集团工作。这次约你见面，是想了解一下，你有没有跳槽的打算。无疆集团非常看好你开发的NAND闪存技术。如果你能来无疆集团，我们会投入大量