会联合花旗国的几家企业攻坚EUV这个难题，不带咱们玩，当然，他们也不代表日系厂商玩。尼康和佳能会死磕157nm光刻机，这个是死路一条，等到他们衰落下去了咱们可以联合他们在国内建厂，吸收他们的技术以后，再一起研发EUV光刻机，7nm以下的制程，DUV光刻机就不行了。”
“等等，你说DUV光刻不能达到7nm以下？那你的意思是说DUV光刻能突破65nm，甚至28nm、14nm直至7nm？”
“不错，能，甚至14nm，7nm都可以，但比较麻烦。”
“怎么做？你怎么研究的？”
“怎么研究的你就别管了。我接下来说的话你谁都不能说，包括在网络上，你看我特意找你办公室来聊，连icq都不用，你就知道问题的严重性了。”
“有必要这么谨慎吗？”
“当然有必要啦。此前，芯片制造工艺的更新换代是以3年为一个周期，但Intel率先将这个周期缩短为2年。Intel公司在1995年实现了0.35微米工艺量产，1997年他们会推出0.25微米产品，1999年就是0.18微米工艺，到了2001年则实现0.13微米产品的量产。英特尔在忠实地践行着摩尔定