波，所以这个就是他们的坎儿。”
“你仔细和我说说。”
“现在国外几家大厂都是使用DUV，也就是深紫外光，通过氟化氪KrF 准分子激光来产生波长248 nm的光，这种光刻机是现在的主流，他们实验室里现在已经基本研发完了通过氟化氩ArF准分子激光来产生波长193 nm光波的下一代光刻机，193nm光刻机没问题。但用F2准分子激光产生波长157nm的光就是个大坑了，他们过不去了，技术解决不了。瓶颈出现了，咱们追赶的机会来了。”
“那他们的解决办法是什么？”
“研发EUV光刻机，也就是极紫外光刻技术。极紫外光刻使用波长在13.5nm的软X射线来光刻，相当于用了一把更小、更锋利的‘刀’。极紫外光刻是5nm等更先进制程的必需工艺。但因为EUV不能穿透透镜，只能用特殊的反射镜来对焦，这样EUV的能量损失会很大，需要更长的曝光时间，会严重影响生产速度，这也就是EUV光刻机难以大规模量产的原因。因此我确信EUV光刻技术15年内完成不了原型机，20年内量产无望。”
“你确定？”
“我十分确定一定以及肯定。我了解到的信息是荷兰阿斯麦公司