的对焦调整,工作台的最小移动距离必须非常小,最好是一个纳米一个纳米移动。实
际制作中当然达不到这样的精度。
以飞利浦最新款的光刻机为例,它的最小移动距离实际只有300纳米。加上光源波长,它的光刻效果,最小线宽达到了三百五十纳米。其
他厂商差不多也是同一水平,有区别也差距不大。
这就是当前国际最先进的光刻机制程能力。
所谓一代设备,一代产品。
最新的奔腾2266处理器,采用的就是350纳米线宽的制程工艺。
白云天进入到实验室,对李莲道:“你们这边进度怎么样?”
“非常顺利!”李莲给了他一个笑脸。她
带领的小组,负责制造光刻机最关键的工作台子系统,其中最重要的就是运动部件。
为了保证运动的稳定性,移动部分不是普通导轨,而是空气悬浮导轨。
从制造难度来说,它不算太大。
无非是一两百纳米的加工精度,对才鸟枪换炮的钢铁城来说一点难度也没有。
之所以它会成为光刻机研制的拦路虎,还是因为导轨设计需要运用到非常高深的流体力学知识,才能验算出怎样设计